액체 물리적 방식을 위한 20Khz 초음파 Sonochemistry 거품 제거 가스 제거
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액체 물리적 방식을 위한 20Khz 초음파 Sonochemistry 거품 제거 가스 제거

초음파는 나노 스케일 물질의 생성 및 적용에 있어 매우 효과적인 처리 방법입니다.
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액체 물리적 방식을 위한 20Khz 초음파 Sonochemistry 거품 제거 가스 제거



소개:


초음파는 나노 크기 물질의 생성 및 응용에 매우 효과적인 처리 방법입니다. 일반적으로 액체의 초음파 캐비테이션은 빠르고 완전한 가스 제거를 유발할 수 있습니다. 반응물의 혼합을 촉진하여 화학 반응을 가속화합니다. 고농축 에멀젼 또는 마이크론 크기 또는 나노 크기 물질의 균일한 분산을 생성합니다. 초음파는 결과가 상업적 수준으로 확장되기 전에 실험실 및 벤치-업 규모에서 테스트할 수 있습니다.


엄마기능:


1. 거품은 거품의 농도가 높으며,초음파탈기가스 장비의 기포는 미리 생성된 거품이고, 거품은 액체 거품 앞에 모이는 수가 많지 않으며,탈기, 또는 용해, 액체 가스 소포에 혼합,탈기.

2. 전체 공정은 기계적 소포 방식이라고도하는 완전히 물리적 방식으로 소포제를 사용하지 않습니다.

3. 생성된 기포의 표면에 대해 장치가 명확하지 않으므로 소포 필름을 함께 맞추어 해결해야 합니다.


다른 응용 프로그램:


1. 증기의 기포 제거; 미네랄 워터; 화난 물; 수증기; 탄산 음료 및 기타 액체 상태 음료;

2.탈기

3. 리보솜 조절,

4. 방선균 및 곰팡이 실의 절단,

5. 화학 반응의 가속,

6. 조직 조각의 파괴에 의한 특수 성분의 추출,

7. 시료의 유화 및 분산(물-기름, 물-은 등과 같은 액체의 혼합물). 


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